第3667章 浸润式微影技术（2/2）

萧扬明说道：“第二个方向就是进行157nm的液体介质浸没式光刻，这个方向的风险性太大，几乎等于要把原来已经成熟的193nm干式架构全部推到重新架构，这个方案虽然也有一定的呼声，不过并不大，至少在目前技术水平下，还有着太多的障碍没法攻克。而且无论是时间的跨度还是海量的投资，都能让人窒息。然而几乎所有真正懂得步进机原理的都知道，157nm进程早晚都要面对，即使现在规避，可等到摩尔定律到了时间压缩的极限，还是最终需要重启。”

“在这两种方案的对比下，sematech美方非企业组织显然觉得，asml可以和nikon和canon进行同质化研发，这样至少可以保持住asml在光刻机领域的世界前三强的位置，制约东洋。”

在90年asml推出pas5500之前，asml在全球光刻机领域的市场份额，几乎可以忽略不提，而且自从成立起就一直处于亏损状态，整整亏损了六年。

这里面幸亏有飞利浦持股27.4%的台积电的订单，不然asml生产出来的pas步进机，根本就没有人买。

而从pas5500开始，只是靠着这一款产品，asml就一路挤掉全球诸多的光刻机企业，成为全球第三。

也正是凭借着pas5500的亮眼表现，让欧洲和老m突然对有可能超过nikon和canon，成为全球光刻机霸主，充满了一种热血的冲动和渴望，不愿意在这个领域受制于人。

连忙不请自来的屁颠屁颠的到处串联，于97年组建sematech联盟。

到了99年开始收购硅谷集团（svg），这是美国本土唯一的一家大型光刻机企业，asml更是超过canon，一跃成为光刻机领域排名世界第二，仅次于nikon。

也正是这种危机感，让nikon和canon这两家东洋企业不计前嫌的联手，研发下一代的157nm光刻机。

而英特尔，摩托罗拉，amd等看到这一幕，向nikon和canon提出了休战合议，就是组建euv-llc联盟（极紫外光刻技术），由这些公司投资参股nikon和canon剥离光刻机部门，这种简直就是抢劫的行为，东洋那边一片骂声，当然不会同意。

当年的广场协定，可把东洋坑的不轻，这次自然不愿意再当上当的傻比。

于是英特尔，摩托罗拉，amd这些企业又找到asml，提出可以提供资金研发euv光刻机，才有了asml现在的路线争论。

“还有对雕刻源的选择，除了duv和euv，xpl（x射线近场光刻）、电子束光刻和离子投影光刻，这四种雕刻源代表着四个不同的方向，全球都有企业和研发机构在推进这些雕刻技术。不过除了这些，目前在公司里面呼声最高的是193nm浸润式光刻技术。”

赵长安听的愣了一下，有点惊讶的望着萧扬名。

“在去年底的全球spie微光刻会议上，mit的报告表明，在纯水环境157nm技术有着太多的难题和不稳定性，然而对于193nm，则和空气中的数据几乎没有任何的区别。”

萧扬名说道：“长安你可能没太明白这个报告的意义，其实只要你事后稍微想一下就明白了，尤其你也是微电子专业。这也就是意味着可以利用成熟的193nm工艺，浸润式微影技术将镜头与晶圆的介质从折射率n~1的空气，改成n= 1.44的水（对应波长为193纳米光），形同将波长等效缩小为134纳米。这样就解决了这个最根本的波长问题。”

“这个技术呼声最高的是飞利浦，英特尔，卡尔蔡司，这些euv-llc联盟成员。因为一旦成功，asml的市场份额就会从全球第二，进入全球第一，而且把nikon和canon甩开一个断层。不过这个技术上的难题依然很多，同样是即使投入大量的资源，也不能说就一定可以研发成功。”