第555章 EUV光刻机？震惊众人！（2/2）

他们一直在消化孙坚话中的内容，反复思考这个难以置信的信息。

而且孙坚说出来的时候没有思考和犹豫，表现的非常云淡风轻。

好像在孙坚的眼中，眼前的这台光刻机就像是一台非常普通、可有可无的普通机器一样。

这样一来，就让他们更加难以置信了。

要知道，asml研发euv光刻机是一个历经多年、汇聚多方力量的过程。

20世纪80年代中期，euv光刻技术研究起步。

1997年，asml聘请jos benschop启动euv计划。

1998年，asml与德国蔡司和牛津仪器公司成立了“euclides”欧洲工业研发联盟，共同推进euv技术研发。

1999年，asml和euclides与阿美莉卡euv llc联手，加速技术开发。

直到2000年，jos在spie上展示euclides计划的第一个结果。

2001年，asml分配少量资源构建euv原型系统。

2006年，第一批euv原型机被运往比利时的imec和纽约奥尔巴尼的suny，用于了解euv技术及其在半导体制造中的应用。

2010年，asml向泡菜国三星研究机构运送了第一台twinscan nxe:3100预生产euv系统，并在平安夜实现了“第一道光”。

该机器数值孔径为0.25，能曝出10纳米时代需要的图案，但光源功率较弱，最佳状态时只能输出10瓦。

2012年，英特尔、三星和台积电等主要客户同意在五年内为asml的euv研发贡献资金并收购公司股份。

2013年，asml交付了第一台nxe:3300，台积电等客户与其共同开发。

2014年，光源功率提升到40瓦左右，后续继续优化以满足量产要求。

2016年，asml推出量产型euv光刻机nxe3600b。

2017年，euv光刻机实现大规模商用，逐渐成为半导体先进制程中最重要的生产工具。

2020年底，asml庆祝第100台euv极紫外光光刻系统出货。

此时其euv光刻机已广泛应用于5纳米等先进制程芯片制造。

可以说，asml对euv光刻机的研发经历了很长时间，也遇到了很多的困难。

整个时间维度，更是横跨20年的时间。

所以当孙坚这样直白说出来，众人一时之间还没有接受。

他们没想到星海科技居然真的把euv光刻机给研发出来了。

而且，这台光刻机的性能就已经实现了对目前世界先进水平的追赶。

只是和asml不一样的是，asml的5纳米性能的光刻机还没有正式制造出来。

而星海科技的这台光刻机却已经真实的摆在了众人的眼前，开始进行商用了。

“之所以我们的光刻机和asml的有些不一样，主要是我们这台光刻机的性能更加强悍。”

“不管是在光刻机制造成本，还是在制造芯片的成功率上，我们的这台光刻机肯定都要遥遥领先asml的光刻机。”

孙坚以为在场的众人不说话，是想要知道更多的信息，他就继续说了一些。

此时，陈敏和教授们更加震惊的说不出话了。

不过也有教授表达了自己的质疑：“孙总，可否让我们看一下贵公司的光刻机怎么运作的？”

“这样一来，对我们来说也更加有说服力不是？”

其他人听后，虽然没有说话，但是在心里深以为然。