第283章 夜宿新肇（1/2）

接下来两天，主楼会议室的门，几乎从未关闭。

烟雾缭绕的空气里，混合着钢笔划过纸张的沙沙声、激烈的辩论声、偶尔因找到思路而提高的兴奋语调，以及暖气管片单调却持续的嗡鸣。

讨论进入了真正的深水区。

不再仅仅是确定“五微米”这个目标，而是围绕着如何实现它、稳定它，以及看清下一步的路径，展开了一场场触及筋骨的“技术解剖”。

光刻技术本身，被拆解成一个个子系统。

光学部的张工将一叠厚厚的像差分析数据拍在桌上：“球差、彗差、像散、场曲……我们的复消色差物镜设计理论没问题，但加工装配的累积误差让这些‘魔鬼’全跑出来了。尤其是这个场曲，视场边缘的像质塌陷得厉害，导致芯片边缘的图形永远比中心的模糊、变形。”

他指向一张光学传递函数曲线图，边缘视场的曲线就像体力不支般早早垂下了头。“不解决这个，五微米工艺的均匀性就是空谈。我们需要更精密的定心磨边机，需要装配环境恒温恒湿，更需要一套严格的装调检测流程，而不是靠老师傅‘感觉’对上了就行。”

精密机械室的王工接着摊开工作台的运动误差分析图，那上面用不同颜色的线条标注着定位误差、直线度误差、角度摆动误差，像一幅抽象的、令人头疼的地形图。

哈工大的周工补充道：“蜗轮蜗杆的背隙可以调，但磨损带来的误差是时变的。更麻烦的是导轨的直线度，我们在三米长的花岗岩平尺上检测，微米级的起伏像连绵的小山丘。工作台跑过去，就像车开在坑洼路上，能不抖吗？”

他带来的振动测试记录显示，车间地面的低频振动频谱与工作台误差出现的高峰时段惊人地吻合。

“隔振是系统工程，光给光刻机穿‘厚底鞋’不够，得给整个车间，甚至整栋楼做‘减震地基’。”

材料匹配成了新的焦点。

光刻胶，这种当时国内尚属空白、完全依赖极少量进口或简陋自配的神秘感光材料，其性能的不稳定成了最大的“黑箱”。

专门研究光刻胶的工程师苦笑：“不同批次的胶，灵敏度能差一倍；涂胶的均匀性，转速差十转，厚度能差几十个纳米；前烘温度波动两度，显影时间就得跟着变。我们现在是在用做化学实验的精度，去要求微米级的图形转移。没有标准化的胶，没有自动化的涂胶显影设备，工艺窗口窄得像条缝。”

检测与良率控制，更是让所有人眉头紧锁。

如何判断一块曝光后的图形是合格的，靠老师在显微镜下一片片数线条、量宽度，效率低下且主观。

陈光远指出：“我们需要快速的、定量的检测手段。哪怕是最简单的光学对比度测量仪，或者自己搭建一套基于光电倍增管的透光率扫描系统。把‘看起来差不多’变成‘数据达标’。良率统计也不能只算最后封装测试通过的，要从涂胶开始，每一步的损耗、缺陷类型和数量都记录下来，画出‘缺陷地图’，倒逼前道工序改进。”

讨论从单项技术，不可避免地扩展到系统集成。

光刻机不是光学、机械、控制、材料的简单堆叠，它们之间存在着复杂的耦合与干扰。

武水院的赵工再次强调了电力质量问题，并提出了一个更细致的监测方案。

在光刻机电源入口、控制柜、乃至关键电机和灯源处，都加装简易的电压电流记录仪，同步记录时间戳，一旦出现曝光缺陷，可以回溯到是否是某一时刻的电网扰动所致。

这个想法得到了积极响应，记录数据、建立关联，正是他们开始共识的工作方法。

就在讨论有些陷入“问题太多、无从下手”的疲惫感时，吕辰将之前与宋教授、谢凯推敲过的两个跨界思路，正式提了出来。

“第一个思路，我们称之为‘模拟实验与数字化双胞胎’。”吕辰走到黑板前，画了一个光刻机的简化示意图，又在旁边画了一个虚拟的方框。

“在真正昂贵的硅片和光刻胶上试错，成本太高。我们能不能先纸上谈兵，再沙盘推演？”

他解释道：“纸上谈兵是指，集中数学和物理力量，尝试建立光刻过程的关键数学模型。比如，光源通过物镜成像的光强分布模型、光刻胶曝光反应的化学动力学模型、甚至初步的热膨胀和应力变形模型。不用很精确，哪怕是最简化的版本，也能帮助我们理解各参数之间的影响关系，预测可能出现的缺陷模式——比如，如果照明不均匀度超过5%，边缘线条宽度会如何变化？”

他顿了顿，看到几位理论出身的研究员眼睛开始发亮，继续道：“沙盘推演则更直观。我们可以用透明玻璃或石英片代替硅片，用掺有荧光染料或遮光微粒的特殊液体模拟光刻胶的流动和分布。用改装的电影摄像机加显微镜头，拍摄曝光瞬间光强分布的变化、模拟胶在旋转涂布时的流动形态。这能让我们看见过程，比如基片表面微小不平整如何导致胶厚不均，气流如何干扰图形。”

陈光远摸着下巴，沉思道：“这个思路……跳出了就设备论设备的圈子。有点像打仗前的侦察和推演。模型可能不准，模拟可能失真，但能给我们方向，减少盲目试错。尤其是那个‘看流动’的想法，很有意思。光学我们擅长，流体力学……所里也有相关专业的人，可以试试。”

“第二个思路，是关于标准化与模块化。”谢凯接过话头，他拿出几张草图，上面画着光刻机几个主要功能模块的分解图，以及设想中的接口定义。

“我们现在造的是原型机，一切以能跑通为首要目标。但未来要走向稳定生产和迭代升级，就必须考虑架构的可持续性。”他指着图纸说，“比如，能否定义一个照明模块接口，规定光强、均匀度、光谱的标准测试方法和连接方式？这样，未来光源升级了，可以相对独立地替换和验证。同样，物镜模块、工作台模块、控制柜……都尝试进行接口和性能的标准化定义。”

他拿出另一份清单：“还可以开发一套光刻工艺工具箱。不是实物工具箱，而是一套文件和技术规范。比如，一个常用图形库，每类图形都附带经过验证的、针对我们当前这套五微米工艺的推荐曝光参数范围。再比如，一份典型缺陷图谱及可能原因分析指南。让新来的工程师，不是从头摸索，而是站在一个基础平台上工作。”

上海机床厂的刘工立刻表示共鸣：“这个好！我们机床行业也在尝试搞部件标准化。如果光刻机的核心部件能有相对统一的接口和性能标准，我们加工起来目标更明确，也便于批量制备备件，不至于一台机器一个样，维护起来要命。”

激烈的思想碰撞持续了两天。

会议室的烟灰缸满了又清，清了又满；稿纸写满了一张又一张；暖水瓶来回打了好几次。

最终，所有的讨论、争执、建议和共识，都凝结成了一份沉甸甸的《“星河计划”光刻及关联技术关键问题与需求清单》。

这份清单不再是泛泛而谈，而是分门别类，清晰地列出了：

光学系统：特定规格的定心磨边机需求、高精度干涉仪需求、像差在线检测方案设想……

精密机械：超平花岗岩平台加工精度指标、新型减振材料试验需求、工作台寿命测试方法与标准草案……

工艺材料：光刻胶性能标准化指标建议、涂胶显影设备原理样机设计需求、工艺窗口实验设计……

控制与检测：多路同步数据采集系统方案、快速线宽测量装置技术指标、缺陷自动识别算法预研方向……

系统与标准：“光刻模块接口标准”草案编制任务、“工艺工具箱”内容框架与分工……

前沿与模拟：光刻过程简化数学模型研究课题、流体\/热力学模拟实验方案与设备需求……

每一个条目后面，都初步标注了负责或牵头单位、建议解决路径、以及期望的时间节点。

这份清单，将由宋颜教授带回北京，提交给“星河计划”领导小组，成为协调全国力量、下发攻关任务的直接依据。

临别前夜，陈光远在所里小食堂安排了一顿简单的送行饭。

依旧是朴素的饭菜，但气氛格外热烈。

大家以茶代酒，互道珍重。